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全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，采用真空光室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。

多功能W2型全譜直讀光譜儀于有色金屬設計的光譜儀W2型具有多功有色金屬設計的用于測試鋁基、銅基、鎂基、鋅基、鈷基、錫基、鉛基等覆蓋了全元素分析范圍，根據(jù)用戶要求設定測量的元素通道。 光譜儀*異的長期穩(wěn)定性和精密度光學系統(tǒng)采用Z高精密光柵，3600l/ｍｍ，配合多塊ＣＣＤ組合，確保光學系統(tǒng)Z高精度。創(chuàng)新設計的數(shù)字激發(fā)光源，鎢材料電極及氬氣噴射激發(fā)模式根據(jù)不同的材料設定不同的激發(fā)參數(shù)，使火花放

多功能W6型全譜直讀光譜儀 檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基 全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、*的ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有*的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。

光譜直讀分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測元素的特征光譜通過樣品的蒸汽中待測元素的基態(tài)原子所吸收，由發(fā)射光譜被減弱的程度，進而求得樣品中待測元素的含量。它符合郎珀-比爾定律 A= -lg I/I o= -LgT = KCL 式中I為透射光強度，I0為發(fā)射光強度，T為透射比，L為光通過原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。